エキシマレーザ用ミラー

エキシマレーザ用ミラー

エキシマレーザ用ミラー

高精度に研磨された合成石英、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウムの基板上に、主として、フッ化物膜多層膜による低損失かつ高耐力なミラーコートを施しています。耐光強度や反射率、耐環境性などを考慮し、最適な膜設計でご提案させていただきます。
ArFレーザ(193nm)、KrFレーザ(248nm)、XeClレーザ(308nm)、XeFレーザ(352nm)は勿論、F2レーザ(157nm)、Kr2レーザ(146nm)、Ar2レーザ(126nm)の各波長にも対応させていただきます。現在、誘電体多層膜ミラーは126nmが最短波長となっておりますが、Al増反射ミラーは115nmまで対応可能です。 通常のレーザーミラーのほか、KrFレーザよりも長い波長では、エッチング技術により多層膜ミラーをパターニングした高耐力フォトマスクも承っております。

主な特徴

エキシマレーザ用ミラー 主な特徴
高いレーザ耐力
世界最高水準KrFレーザミラー
28J/cm2 @248nm,15ns
(レーザコンディショニング)
高い反射率
VUVエキシマにも対応
R>95%@157nm,垂直
低い光学損失
R>99.98% @1064nm、低吸収と低散乱

SOCは、20年前からエキシマレーザ用コ-ティングの開発に取り組んでいます。妥協することなくナンバ-ワンを追求する研究開発により、高耐力エキシマレーザ用ミラ-を完成。126nmから352nmまで、高出力エキシマレーザに対応可能な技術力をもとに、お客様の多様なニ-ズに柔軟にお応えします。

カタログダウンロード

光学部品 (pdf, 8,166KB)

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